 | • レポートコード：MRC-SE-59056 • 発行年月：2026年05月 • レポート形態：英文PDF • 納品方法：Eメール（納期：2～3日） • 産業分類：Service & Software |
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※下記記載のレポート概要・目次・セグメント項目・企業名などは最新情報ではない可能性がありますので、ご購入の前にサンプルを依頼してご確認ください。
レポート概要
極端紫外線リソグラフィー（EUVリソグラフィー）は、半導体製造において使用される先進的なリソグラフィー技術の一つです。この技術は、波長が13.5ナノメートルの極端紫外線を利用して、微細な回路パターンをシリコンウエハ上に形成することを目的としています。従来の紫外線リソグラフィーに比べて、より短い波長を使用することで、より高い解像度と微細パターンの形成が可能となります。
EUVリソグラフィーの最大の特徴は、その高解像度です。波長が短いことで、より小さな構造を正確に描画でき、半導体のトランジスタや配線のサイズを微細化することが可能です。これにより、集積回路の性能向上、消費電力の低減、さらにはデバイスの小型化が実現されます。また、EUV技術は、従来のリソグラフィー技術に比べて工程数を削減できるため、生産効率の向上にも寄与します。
EUVリソグラフィーには、主に二つの種類があります。一つは、シングルパターンEUVリソグラフィーで、これは単一の露光プロセスでパターンを形成する方法です。もう一つは、デュアルパターンEUVリソグラフィーで、これは二回の露光プロセスを用いて、より複雑なパターンを作り出す方法です。デュアルパターン方式は、特に微細なトランジスタ構造を必要とする場合に有効です。
EUVリソグラフィーの用途は、主に最先端の半導体デバイスの製造に用いられます。特に、7nmプロセス技術や5nmプロセス技術など、次世代の半導体プロセスにおいて重要な役割を果たしています。また、EUV技術は、スマートフォンや高性能コンピュータ、人工知能（AI）デバイス、自動運転車など、様々な先進的な電子機器に利用されています。
EUVリソグラフィーに関連する技術としては、光源技術、マスク技術、エッチング技術などがあります。特に、EUV光源は、現在の技術において非常に高度であり、レーザーによるプラズマ生成によって極端紫外線を発生させる方式が主流です。また、EUVマスクは、パターンを転写するための重要な要素であり、高精度な製造が求められます。さらに、EUVリソグラフィーでは、エッチング技術も重要であり、露光後のパターン形成を効果的に行うための技術開発が進められています。
このように、EUVリソグラフィーは、半導体製造における革命的な技術であり、高解像度のパターン形成を可能にすることで、次世代の電子機器の進化を支えています。これからも、技術の進歩によってさらなる性能向上やコスト削減が期待されており、半導体業界全体において重要な役割を果たし続けるでしょう。
当資料（Global Extreme Ultraviolet Lithography Market）は世界の極端紫外線リソグラフィー市場の現状と今後の展望について調査・分析しました。世界の極端紫外線リソグラフィー市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を掲載しています。
最新調査によると、世界の極端紫外線リソグラフィー市場規模は2025年のxxx百万ドルから2026年にはxxx百万ドルになると推定され、今後5年間の年平均成長率はxx%と予想されます。
極端紫外線リソグラフィー市場の種類別（By Type）のセグメントは、レーザー生成プラズマ（LPP）、真空スパーク、ガス放電をカバーしており、用途別（By Application）のセグメントは、メモリ、IDM、ファウンドリ、その他をカバーしています。地域別セグメントは、北米、米国、カナダ、メキシコ、ヨーロッパ、ドイツ、イギリス、フランス、ロシア、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、極端紫外線リソグラフィーの市場規模を調査しました。
当資料に含まれる主要企業は、ASML、Motorola、Intel、…などがあり、各企業の極端紫外線リソグラフィー販売状況、製品・事業概要、市場シェアなどを掲載しています。
【目次】
世界の極端紫外線リソグラフィー市場概要（Global Extreme Ultraviolet Lithography Market）
主要企業の動向
– ASML社の企業概要・製品概要
– ASML社の販売量・売上・価格・市場シェア
– ASML社の事業動向
– Motorola社の企業概要・製品概要
– Motorola社の販売量・売上・価格・市場シェア
– Motorola社の事業動向
– Intel社の企業概要・製品概要
– Intel社の販売量・売上・価格・市場シェア
– Intel社の事業動向
…
…
企業別売上及び市場シェア（～2025年）
世界の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 種類別セグメント：レーザー生成プラズマ（LPP）、真空スパーク、ガス放電
– 種類別市場規模（販売量・売上・価格）
– 用途別セグメント：メモリ、IDM、ファウンドリ、その他
– 用途別市場規模（販売量・売上・価格）
主要地域における極端紫外線リソグラフィー市場規模
北米の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 北米の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 北米の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– 米国の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– カナダの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– メキシコの極端紫外線リソグラフィー市場規模
ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– ヨーロッパの極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– ドイツの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– イギリスの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– フランスの極端紫外線リソグラフィー市場規模
アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
– 日本の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– 中国の極端紫外線リソグラフィー市場規模
– インドの極端紫外線リソグラフィー市場規模
– 東南アジアの極端紫外線リソグラフィー市場規模
南米の極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 南米の極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 南米の極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場（2021年～2031年）
– 中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場：種類別
– 中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィー市場：用途別
極端紫外線リソグラフィーの流通チャネル分析
調査の結論